Презентация ВЛИЯНИЕ ЭЛЕКТРОМАГНИТНОГО ИЗЛУЧЕНИЯ НА ПРОЦЕСС ДЕГИДРАТАЦИОННОЙ САМООРГАНИЗАЦИИ 
ВЛИЯНИЕ ЭЛЕКТРОМАГНИТНОГО           ИЗЛУЧЕНИЯ НА ПРОЦЕСС               ДЕГИДРАТАЦИОННОЙ                 САМООРГАНИЗАЦИИВЫПОЛНИЛА:УЧЕНИЦА 11 КЛАССА «А»МБОУ ШКОЛА №14АНИСИМОВА ВИКТОРИЯ ВЛАДИМИРОВНАУЧИТЕЛЬ: АЛЕШИНА И.В.
60 мм350 мм
18293730271320 минут1 сутки5 сутокВывод: электромагнитное поле влияет на рост кристаллов,  оказывает модифицирующее влияние на структурообразование
Цель работы:   Изучить модифицирующее влияние низкоинтенсивного электромагнитного излучения на структурообразовательные свойства веществЗадачи    Разработать план эксперимента    Провести эксперимент    Обработать результаты
Медный купорос без обработки1361015202530
Медный купорос с обработкой3025201510631
ВремяБез обработкиВремяС обработкой10 мкФ, 0,5 Гц, 10 мин.0 минутОбразование мелких кристаллов в середине и по ободку фации0 минутЗаметно появление первого кристалла в середине фации, появление небольших образований по краям3 минутыУвеличение количества кристаллов, более четкое очертание формы2 минутыУвеличение численности образований по краям6 минутЯрко выраженный ободок из кристаллов вокруг фации, увеличение в размере уже образовавшихся кристаллов5 минутУвеличение кристаллов в объеме по края фации, увеличение численности кристаллов в середине10 минутОбразование новых кристаллов прекратилось. Увеличение в размере уже образовавшихся кристаллов10 минутПоявление новых образований с четко выраженной формой15 минутУвеличение в объеме уже образовавшихся кристаллов15 минутУвеличение численности кристаллов, увеличение их в объеме20 минутУвеличение в объеме уже образовавшихся кристаллов20 минутОбразование новых кристаллов прекратилось. Происходит уплотнение кристаллов25 минутУвеличение в объеме уже образовавшихся кристаллов25 минутПроисходит уплотнение кристаллов30 минутУвеличение в объеме уже образовавшихся кристаллов30 минутПроисходит уплотнение кристаллов, сильных изменений не обнаруженоТаблица «Время структурообразования»Вывод: электромагнитное поле увеличивает время структурообразования кристаллов
При высыхании раствора медного купороса в контрольных образцах (без облучения) и в пробирках с облучением были зафиксированы следующие показатели:ВремяБез обработки, штВремяС обработкой, шт0 минут16 и ободок из множества кристаллов по краю0 минут3 и 11 мелких образований по краям3 минуты24 и ободок из множества кристаллов по краю2 минуты446 минут26 и ободок из множества кристаллов по краю5 минут5510 минут26 и ободок из множества кристаллов по краю10 минут38 отдельных кристаллов, по краям кристаллы образовали один большой кристалл15 минут10 больших кристаллов15 минут92-100 (если считать и самые маленькие образование)20 минут5 больших кристаллов20 минут92-100 25 минут4 больших кристалла25 минут92-100 30 минут3 больших кристалла30 минут92-100 Зависимость числа кристаллов от времени в медном купоросе3       6       10      15     20    25    30
Интерферон 5000МЕ контроль
Интерферон 5000МЕ ОИМП режим №1 (400 В; 0,5 Гц; 100 мкф) 5 мин обработкиИнтерферон 5000МЕ ОИМП режим №1 (400 В; 0,5 Гц; 100 мкф) 10 мин обработкиИнтерферон 5000МЕ ОИМП режим №1 (400 В; 0,5 Гц; 100 мкф) 20 мин обработкиИнтерферон 5000МЕ ОИМП режим №2 (400 В; 5 Гц; 10 мкф) 5 мин обработкиИнтерферон 5000МЕ ОИМП режим №2 (400 В; 5 Гц; 10 мкф) 10 мин обработкиИнтерферон 5000МЕ ОИМП режим №2 (400 В; 5 Гц; 10 мкф) 20 мин обработки
Показатели          Контроль  (м^2)      ОИМП 0.5 Гц   (м^2) ОИМП   5 Гц   (м^2)Sобщ             0,00003            0,00002      0,000018997Sвн.ч           0,0000257          0,000014      0,000000363Sоб           0,0000043          0,000006       0,0000186Sоб/Sобщ               0,14               0,3            0,979Sобщ – общая площадь фации, Sвн.ч – площадь внутренней части фации, Sоб – площадь периферического ободка, Sоб/Sобщ – отношение площади периферического ободка к общей площади фации.Параметры фаций в интерферонеВывод: отношение площади периферического ободка к общей площади фации пропорционально частоте электромагнитного поля
Интерферон 5000МЕ ОИМП режим №1 (400 В; 0,5 Гц; 100 мкф) 5 мин обработкиИнтерферон 5000МЕ ОИМП режим №1 (400 В; 0,5 Гц; 100 мкф) 5 мин / спустя сутки после обработки
Число образовавшихся кристаллов в интерферонеКонтроль             ОИМП 0.5 Гц            ОИМП   5 Гц исходныйсуточныйисходный суточныйКоличество фрагментов        81Без учета не сформировавшихся кристаллов       569        89       324       127Вывод: число  образовавшихся кристаллов пропорционально частоте электромагнитного поля
  С помощью метода клиновидной дегидратации обнаружено модифицирующее влияние электромагнитного поля разных частот на структурообразование в растворах CuSo4 интерферона:  Электромагнитное поле увеличивает время структурообразования кристаллов;  Число кристаллов больше в облученных образцах;  Отношение площади периферического ободка к общей площади фации пропорционально частоте электромагнитного поля;  Чем дольше интерферон подвергался облучению, тем сильнее деградация его структуры;  При увеличении частоты электромагнитного поля скорость деградации возрастает;  Число образовавшихся кристаллов в суточных образцах пропорционально частоте;  По результатам действия электромагнитного поля можно определить качество интерферона.ВЫВОДЫ 
   ПРАКТИЧЕСКАЯ ЗНАЧИМОСТЬ  Для регулирования роста кристаллов может быть использовано модифицирующее действие электромагнитного поля;  Интерферон может быть использован как индикатор воздействия электромагнитного поля;  Возможность контроля качества интерферона.РАБОТЫ
    СПАСИБО              ЗА ВНИМАНИЕ!